基础的真空镀膜知识

真空镀膜的三种形式介绍，即蒸腾、溅射和离子镀.蒸腾镀膜是通过加热蒸腾某些物质使其堆积在固体表面而形成的，叫做蒸腾镀膜。法拉第在1857年首次提出了这一方法，现在它已经成为一种常用的涂膜技巧。   　　金属、化合物等蒸腾物质置于坩埚内或悬挂在热丝上作为蒸腾源，金属、陶瓷、塑料等衬底的待镀件放在坩埚前面。将所需系统抽到高真空后，加热坩埚，使材料在其中蒸发。蒸发物质的原子或分子以凝结的方式聚集在衬底表面。膜厚可以从几百埃到几微米不等。膜厚度决定于蒸腾源的蒸腾速率和时间(或决定于物料的装载)，并且与源段和基片的距离有关。   　　对于大面积镀膜，通常采用旋转式衬底或多蒸腾源的方式来保证膜层厚度的均匀。蒸发源到基片之间的距离应小于蒸发分子在残留气体中的均匀自由程，以避免蒸发分子与残留气体碰撞而产生化学效应。蒸汽分子的均匀动能在0.1~0.2电子伏之间。   　　

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